磁控卷绕镀膜设备是在真空环境中，利用磁控溅射的方法将镀料变成气态或离子状态，再沉积到工件上，形成一层致密的膜。从而达到改善表面状态或获得一定特殊性能的功能或装饰膜层。
设备采用了磁控溅射系统与精密卷绕控制系统，配备伺服电机驱动控制系统，实现恒张力，恒速度控制；配备薄膜自动展平系统，薄膜不起皱，收卷质量高；增加闭环控制系统，提高沉积速率，可在幅宽1100mm的PET卷材上连续镀制多层介质膜，重复性好，工艺稳定；卷绕系统与靶可分别从两端拉出，方便装卸膜卷及更换维护靶材；设备自动化程度高，自动监控设备工作状态，具备故障报警及自动保护功能，设备操作难度低。
可沉积Nb2O5、TiO2、SiO2等氧化物，Cu、Al、Cr、Ti等各类单质金属，主要用于沉积多层光学彩膜及单质金属膜等；设备适用于PET薄膜、导电布等柔性薄膜材料，在手机装饰性贴膜、包装膜、EMI电磁屏蔽膜、ITO透明膜等产品上有广泛应用。
