产品介绍
PRODUCT DESCRIPTION

磁控卷绕镀膜设备是在真空环境中,利用磁控溅射的方法将镀料变成气态或离子状态,再沉积到工件上,形成一层致密的膜。从而达到改善表面状态或获得一定特殊性能的功能或装饰膜层。

设备采用了磁控溅射系统与精密卷绕控制系统,配备伺服电机驱动控制系统,实现恒张力,恒速度控制;配备薄膜自动展平系统,薄膜不起皱,收卷质量高;增加闭环控制系统,提高沉积速率,可在幅宽1100mm的PET卷材上连续镀制多层介质膜,重复性好,工艺稳定;卷绕系统与靶可分别从两端拉出,方便装卸膜卷及更换维护靶材;设备自动化程度高,自动监控设备工作状态,具备故障报警及自动保护功能,设备操作难度低。

可沉积Nb2O5、TiO2、SiO2等氧化物,Cu、Al、Cr、Ti等各类单质金属,主要用于沉积多层光学彩膜及单质金属膜等;设备适用于PET薄膜、导电布等柔性薄膜材料,在手机装饰性贴膜、包装膜、EMI电磁屏蔽膜、ITO透明膜等产品上有广泛应用。

型号
设备尺寸(幅宽)备注
RCX1100

1100mm

设备可根据客户要求定制

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