产品介绍
PRODUCT DESCRIPTION

实验型卷绕镀膜设备采用磁控溅射及阴极电弧相结合的镀膜技术,既满足了对膜层致密性要求,又满足了高离化率的要求;立式结构,工件卷绕系统垂直安装在真空室内;多室门设计,阴极安装在侧门上,可装六套阴极源或离子源,开门即可对靶进行维护或更换;设备可一次性进行工件表面处理及镀制多层膜,实现多层膜沉积。适用多种金属或化合物镀膜材料。

设备具有外形美观、结构紧凑、占地面积小、自动化程度高、操作简单灵活、性能稳定、易维护的特点,尤其适用于实验室高校使用,客户可根据自身不同需求选配。

 


型号
设备尺寸(宽幅)备注

RCW300

300(mm)

设备可根据客户要求定制



 

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