产品介绍
PRODUCT DESCRIPTION

本系列设备是利用磁控靶将镀膜材料转化为纳米尺度的粒子,沉积在基片表面形成薄膜。成卷基膜放在真空内,通过电驱动卷绕机构一头收一头放,持续通过靶区,接收靶料粒子,形成致密的膜层。

特点:

1.低温成膜。温度对基材影响小,不会产生变形;适用于PET、PI等基材卷材薄膜;

2.膜厚可设计。通过工艺调整,可自行设计沉积较薄或较厚的镀膜层;

3.多个靶位设计,工艺灵活。整机可装八支靶,既可用单质金属靶材也可用化合物、氧化物靶材,可制备单一结构的单层膜,也可制备复合结构的多层膜,工艺非常灵活。

 

设备可制备电磁屏蔽膜、柔性线路板镀膜、各种介质膜、多层结构AR减反膜、HR高反膜、彩膜等,设备适用范围非常广范,一次走膜即可完成单层膜沉积。

设备可采用单质金属靶材如Al、Cr、Cu、Fe、Ni、SUS、TiAl等,或化合物靶材如SiO2、Si3N4、Al2O3、SnO2、ZnO、Ta2O5、ITO、AZO等。

设备尺寸小,结构设计紧凑,占地面积小,能耗低,调整灵活,非常适用工艺、产品研发或小批量量产的需求。

型号
设备尺寸(幅宽)备注

RCW350

350(mm)

设备可根据客户要求定制

RCW600

600(mm)

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