产品介绍
PRODUCT DESCRIPTION

随着手机产业需求迅速增长,传统光学机的装载量已无法满足,振华为解决这一需求推出了磁控溅射镀光学膜设备。

设备特点:

(1)工件架采用圆筒式设计,镀膜面积大,产品装载量是同规格电子束蒸发设备的2倍。工件架设计公转与自转结构,可适应多种形状工件,用途更广;

(2)采用中频磁控圆柱靶溅射系统及离子源辅助系统,膜层致密,折射率高且稳定,附着力强,不易吸附水汽分子,在各类环境中,比传统电子束蒸发设备所沉积的膜层保持更稳定的光学性能;

(3)配备了晶控监测系统精确控制膜层厚度,工艺稳定性高,重复性好;SPEEDFLO闭环及全自动控制系统,有效提高SiO2的沉积速率;

(4)恒温夹具设计有效控制产品温度,可适应超薄PET、PC材质类产品。

 

设备可用于沉积TiO2、SiO2、Nb2O5、In、Ag、Cr等材料,可实现各类光学彩膜、AR膜、分光膜等,已广泛应用于PET膜片/复合板、手机盖板玻璃、手机中框、3C电子产品、太阳眼镜、香水瓶、水晶等产品。

型号
内腔尺寸备注

CFM1916

φ1900*H1600(mm)

设备可根据客户要求定制

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