产品介绍
PRODUCT DESCRIPTION

设备配置了中频磁控溅射镀膜系统+阳极层离子源+SPEEDFLO闭环控制+晶控监测系统。

采用中频磁控溅射技术沉积各类氧化物,对比传统的电子束蒸发镀膜设备,具有更大的装载量,且可适应更多形状的产品,膜层致密性更高,附着力更强,不易吸附水汽分子,在各类环境中能保持更稳定的光学性能。

设备适用于玻璃、水晶、陶瓷及耐温塑胶类产品;可沉积各类氧化物、单质金属,可制备增亮彩膜、渐变彩膜等介质膜。设备已广泛应用于香水瓶、化妆品玻璃瓶、唇膏盖、水晶装饰件、太阳眼镜、滑雪防护镜、小五金件等装饰性产品。

型号
内腔尺寸备注

CF1914

φ1900*H1400(mm)

设备可根据客户要求定制

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