产品介绍
PRODUCT DESCRIPTION

设备采用电子束蒸发技术,电子从阴极灯丝发射,聚焦成一定的束流,经过阴极与坩埚之间的电位加速,使镀料熔化蒸发,具有能量密度高的特点,可使熔点高达3000摄氏度以上的镀料实现蒸发。膜层纯度高,热效率高。

设备配备电子束蒸发源、离子源、膜厚监控系统、膜厚修正结构、稳定的伞状工件旋转系统;通过离子源辅助镀膜,增加膜层致密性,稳定折射率,避免波长受潮偏移现象;通过全自动膜厚实时监测系统可保证工艺的重复性及稳定性;配备了自熔料功能,降低对操作工的技能依赖。

设备适用于各种氧化物及金属镀料;可镀制多层精密光学膜,如AR膜、长波通、短波通、增亮膜、AS/AF膜、IRCUT、彩色膜系、渐变膜系等;已广泛应用于手机玻璃盖板、摄像头、眼镜片、光学镜头、游泳镜、滑雪防护镜、PET膜片/复合板、PMMA、光变磁性薄膜、防伪、化妆品等。

型号
内腔尺寸备注

GX900

φ900*H1050(mm)

设备可根据客户要求定制

GX1350

φ1350*H1500(mm)

GX1600

φ1600*H1550(mm)

GX2050

φ2050*H1650(mm)

GX2700

φ2700*H1950(mm

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