产品介绍
PRODUCT DESCRIPTION

该设备集磁控溅射与离子镀膜技术为一体,对提高颜色一致性、沉积速率及化合物成份的稳定性提供了解决方案。根据不同的产品需求,可选配加热系统、偏压系统、离化系统等装置。设备所镀制的膜层具有附着力强,致密性高的优点,可有效提高产品的耐盐雾性、耐磨性及产品表面硬度,满足了高性能膜层制备的需求。

实验型镀膜设备主要用于各大院校及科研单位,可满足多种实验要求;预留多种结构靶位,灵活配置,以满足不同领域的科研开发。可选配磁控溅射系统、阴极电弧系统、电子束蒸发系统、电阻蒸发系统、CVD、PECVD、离子源、偏压系统、加热系统、三维夹具等,客户可根据自身不同需求选配。

设备具有外形美观、结构紧凑、占地面积小、自动化程度高、操作简单灵活、性能稳定、易维护等特点。

设备可适用于不锈钢、水镀五金件/塑胶件、玻璃、陶瓷等材质;可制备单质金属层如钛、铬、银、铜或金属化合物膜层如TiN/TiCN/TiC/TiO2/TiAlN/CrN/ZrN/CrC等;可实现深黑色、炉内金、玫瑰金、仿金、锆金、宝石蓝、亮银色等颜色。

型号
内腔尺寸备注
ZCL0506

φ500*H600(mm)

设备可根据客户要求定制

ZCL0608

φ600*H800(mm),

ZCL0810

φ800*H1000(mm)

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